2021年9月22日下午，我院举办第三期“光创荟”大讲堂，邀请了中科院上海光机所研究员、博士生导师曾爱军博士主讲，题目是“从深紫外投影光刻机照明系统出发浅谈光学系统设计”，对面向1X nm及其以下工艺节点芯片制造的浸没光刻机的照明系统作了概述，重点介绍光束处理技术、光瞳整形技术、光场匀化技术、照明中继技术和偏振照明技术，以及相关技术原理在其他光学系统中的应用等。对“光刻机概念-光刻机发展历程-光刻机制造商-光刻机核心分系统-光刻机光源掩模偏振优化”等相关知识作了科普介绍。

曾博士还通过“理论篇”、“实践篇”等过程，分享了自己从“初入职场”到成为“技术负责人”的历程，分享了他对科研事业的执着追求与无限热爱，大家都深受启发，本次大讲堂吸引了我院及产业化公司近40名科研人员及集萃研究生参加。